Anneau de focalisation en alumine de haute pureté pour systèmes de gravure plasma et CVD

L'anneau de focalisation de chambre de St.Cera est un composant essentiel des kits de traitement utilisés dans les équipements de gravure plasma, CVD et PVD pour semi-conducteurs. Fabriqué en alumine de haute pureté (Al₂O₃) à 99,8 %, cet anneau entoure le bord de la plaquette pour confiner le plasma et optimiser la distribution angulaire des ions, améliorant ainsi l'uniformité de la gravure sur toute la surface de la plaquette. Ce matériau offre une résistance exceptionnelle au plasma, une rigidité diélectrique élevée (15 × 10⁶ V/m) et une stabilité thermique jusqu'à 1 600 °C, garantissant une fiabilité à long terme dans les environnements plasma agressifs à base de fluor ou de chlore. La précision de la rectification des diamètres intérieur et extérieur, ainsi que la planéité (≤ 10 µm), permettent un positionnement précis du bord de la plaquette, réduisant les défauts de bord et la génération de particules.

Caractéristiques(basé sur 99,8 % d'Al)₂O₃):

Applications :

• · Anneaux de focalisation de la chambre de gravure diélectrique (gravure d'oxyde, de nitrure)
• Anneaux de bord de chambre de gravure du silicium
• Anneaux du kit de traitement de chambre CVD
• • Anneaux de protection et de serrage de la chambre PVD

Processus de fabrication :

La poudre d'alumine de haute pureté est pressée isostatiquement → usinée à cru pour obtenir une forme quasi-définitive → frittée à 1600 °C → rectification diamantée CNC des diamètres intérieur et extérieur, et de l'épaisseur → rodage pour atteindre une planéité ≤ 10 µm → nettoyage par ultrasons → contrôle à 100 % par machine à mesurer tridimensionnelle (MMT). Un état de surface Ra ≤ 0,4 µm minimise l'adhérence des particules.

Contrôle de qualité:

• • Inspection dimensionnelle à 100 % (diamètre intérieur, diamètre extérieur, épaisseur, parallélisme)
• • Test de ressuage pour détecter les microfissures (aucune fissure n'est tolérée)
• • Inspection visuelle au microscope 20× — absence d'éclats, de cavités ou de décoloration
• • Test de rigidité diélectrique selon la norme ASTM D149 (échantillonnage)

Avantages par rapport aux bagues de mise au point en silicium ou en quartz :

• • Durée de vie 5 à 10 fois plus longue dans le plasma fluorocarboné
• • Absence de particules d'érosion consommables susceptibles de contaminer les plaquettes
• Une rigidité diélectrique plus élevée empêche les arcs électriques.
• • Maintient la planéité et la précision dimensionnelle pendant des milliers d'heures de radiofréquence

Matériau alternatif — Zircone stabilisée à l'yttrium (ZrO₂)₂):

Pour les applications exigeant une ténacité à la rupture plus élevée (par exemple, les chambres soumises à des cycles thermiques fréquents ou à des chocs mécaniques), des anneaux de focalisation en ZrO₂ (densité 6,03 g/cm³, résistance à la flexion 1 000 MPa, ténacité à la rupture 5–8 MPa·m¹/²) sont disponibles. Cependant, l’alumine offre un meilleur rapport coût-efficacité et constitue la norme industrielle pour la plupart des applications d’anneaux de focalisation.

Personnalisation :

• • Profilés étagés, lamages ou trous de fixation selon les plans du client
• • Revêtement Y₂O₃ pour une résistance accrue à l'érosion par plasma (épaisseur 20–100 μm)
• Marquage laser du numéro de pièce, du code de date ou des repères d'alignement

Note:Toutes les données sont conformes au tableau des propriétés de l'Al₂O₃ fourni. Pour les spécifications du ZrO₂, veuillez consulter la fiche technique du zircone fournie. La conception des anneaux de focalisation peut nécessiter une autorisation de brevet ; il incombe aux clients de vérifier les droits de propriété intellectuelle.