Anneau en céramique d'alumine de haute pureté pour chambres de traitement CVD/PVD
L'anneau en céramique de St.Cera est spécialement conçu pour les chambres de traitement CVD (dépôt chimique en phase vapeur) et PVD (dépôt physique en phase vapeur). Fabriqué à partir d'alumine (Al₂O₃) de haute pureté (99,8 %), cet anneau sert de revêtement de chambre, d'anneau de focalisation ou de composant de kit de traitement pour confiner le plasma et protéger les parois de la chambre contre l'érosion. Le matériau offre une excellente résistance au plasma, une rigidité diélectrique élevée (15 × 10⁶ V/m) et une stabilité thermique jusqu'à 1 600 °C, garantissant une longue durée de vie dans les environnements plasma agressifs à base de fluor. Des tolérances dimensionnelles précises (±0,05 mm sur les diamètres intérieur et extérieur) et une planéité (≤10 µm) permettent un positionnement constant des bords de la plaquette, améliorant l'uniformité du dépôt et réduisant la génération de particules.
Spécifications (basées sur 99,8 % d'Al₂O₃) :
| Propriété | Valeur |
| Matériel | 99,8 % d'alumine (ivoire) |
| Densité | 3,93 g/cm³ |
| Absorption d'eau | 0% |
| Résistance à la flexion | 361 MPa |
| Résistance à la rupture | 3–4 MPa·m¹/² |
| Dureté Vickers | 16 GPa |
| Module de Young | 380 GPa |
| Conductivité thermique | 32 W/m·K |
| Dilatation thermique (25–1000°C) | 7,2×10⁻⁶/℃ |
| Force diélectrique | 15×10⁶ V/m |
| Résistance spécifique | >10¹⁴ Ω·cm |
| Température maximale de fonctionnement | 1600°C |
Applications :
- • Anneaux de mise au point et anneaux de bord de la chambre CVD
- • Anneaux de protection de chambre et anneaux de serrage en PVD
- • Graver les revêtements de la chambre et les anneaux de recouvrement
- • Anneaux de confinement du plasma dans les systèmes de gravure diélectrique
Processus de fabrication :
Pressage isostatique → usinage à cru → frittage à 1600 °C → rectification CNC intérieure/extérieure → rodage de surface → nettoyage par ultrasons → contrôle par machine à mesurer tridimensionnelle (MMT) à 100 %. Un état de surface ultra-lisse (Ra ≤ 0,4 μm) minimise l'adhérence des particules.
Contrôle de qualité:
- • Contrôle dimensionnel à 100 % (diamètre intérieur, diamètre extérieur, épaisseur, planéité)
- • Inspection par ressuage pour la détection des microfissures de surface
- • Test de rigidité diélectrique selon la norme ASTM D149
- Aucune décoloration ni porosité visible au microscope (grossissement 20×).
Avantages par rapport aux bagues en métal ou en quartz :
- • Durée de vie 5 à 10 fois supérieure à celle des anneaux en aluminium dans le plasma de fluor
- • Absence de contamination métallique dans les couches minces
- • Résistance au plasma supérieure à celle du quartz (absence de piqûres d'érosion)
- • Maintient une isolation électrique >10¹⁴ Ω·cm même après une utilisation prolongée
Matériau alternatif — Nitrure de silicium (Si₃N₄):
Pour les applications exigeant une ténacité à la rupture encore plus élevée (6,2 MPa·m¹/²) et une meilleure résistance aux chocs thermiques (coefficient de dilatation de 3,2 × 10⁻⁶/°C), des anneaux en Si₃N₄ sont disponibles. Cependant, l'alumine est plus économique pour la plupart des applications CVD/PVD. Veuillez préciser votre préférence de matériau lors de votre commande.
Personnalisation :
- • Trous traversants, profils étagés ou lamages pour le montage
- • Surface revêtue de Y₂O₃ pour une résistance accrue au plasma (en option)
- Gravure laser du numéro de pièce / code de lot
Note:Les données ci-dessus correspondent exactement au tableau des propriétés de l'Al₂O₃ fourni. Pour les anneaux Si₃N₄, veuillez vous référer à la fiche technique Si₃N₄ distincte fournie.
